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數(shù)顯控制干式金屬浴

查看: 5967 更新: 2023-05-10 分類: 干式金屬浴

多用途干式金屬浴適用于對溫度穩(wěn)定性有嚴格要求的應用。試管與模塊壁緊密接觸可 實現(xiàn)最大的熱量保留,并實現(xiàn)高效加熱。

數(shù)顯控制干式金屬浴

多用途干式金屬浴適用于對溫度穩(wěn)定性有嚴格要求的應用。試管與模塊壁緊密接觸可實現(xiàn)最大的熱量保留,并實現(xiàn)高效加熱。高功率、固定溫度的模擬控制型號是一種經(jīng)濟型選擇,而數(shù)顯控制型號則提供了卓越的溫度一致性和穩(wěn)定性,適合需要可重復結(jié)果的試驗。設備可適配40多個可換恒溫模塊。

? 卓越的溫度穩(wěn)定性和一致性

? 帶PID微處理器,溫度控制精確、樣品加熱快(數(shù)顯控制型號)

? 數(shù)顯控制型號可以使用外部溫度設備進行校準


數(shù)顯控制干式金屬浴

? 卓越的溫度穩(wěn)定性和一致性

? 選配外置溫度探頭

? 具有可換模塊

適用于需要可重復結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應用。這些多用途金屬浴適合培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應、免疫分析、熔點/沸點和諸多其他實驗室流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座,可安裝外置溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測模塊或樣品實際溫度。5個型號金屬浴均選配不同處理通量的試管模塊,裝載不同尺寸、0.2 mL微型管到50 mL離心試管。每個模塊上帶有一個用于測量模塊溫度的溫度計槽。試管與模塊的緊密接觸可實現(xiàn)最大的熱量保留,實現(xiàn)高效加熱。金屬浴需要使用奧豪斯加熱模塊運行。模塊單獨銷售(詳見73-75頁)。

操作特點:

微處理控制器:帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置,使溫度穩(wěn)定性的變化小于±0.1°C,溫度均勻性變化也小于±0.1°C,確保加熱速度快速、準確升溫,且以± 0.1°C增量調(diào)節(jié)溫度。

LED顯示屏:觸摸式操作面板帶易于讀數(shù)、顯示溫度和時間的LED屏。設備始終提供可重復和準確的結(jié)果,在實驗室工作臺即可輕松查看。溫度顯示屏顯示溫度的設定值與實際溫度。定時器將顯示已用時間,也可將其編程為用戶定義的限值,當時間達到零時設備自動關閉。顯示屏將顯示上一次使用的設置,即使斷電后也可顯示。

溫度校準模式:允許用戶使用外部溫度設備校準溫度。

外置溫度探頭組件

該組件能夠讀取模塊或樣品的真正溫度,并在控制面板上顯示該溫度。外置溫度探頭組件包括不銹鋼RTD PT100探頭、45.7 cm不銹鋼托桿、溫度計/溫度探頭擴展固定架和連接鉤。PT100 RTD探頭設計完美適合每個模塊的溫度計孔。

數(shù)顯控制干式金屬浴數(shù)顯控制干式金屬浴

安全保障:

高溫指示器:當溫度超過40°C時高溫指示燈自動點亮。

過溫保護:當超過設定溫度10°C時,實驗室設備將自動停止加熱。

警報器:在定時模式下,當時間達到零或設備達到設定溫度時,警報器將發(fā)出聲音警報。

注意:為了避免造成觸電危險,請勿用水或其他液體加注槽或加熱塊開口。設備可用于干浴器/恒溫培養(yǎng)箱。

技術參數(shù)

數(shù)顯控制干式金屬浴

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模塊選件

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